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半导体制造车间是对洁净度和电力稳定性要求近乎苛刻的“白色殿堂”。光刻机的极紫外光源需要兆瓦级的脉冲电源驱动，在纳秒级时间内释放数十亿焦耳能量，激发等离子体产生高纯度的极紫外光。蚀刻设备的射频电源则以数百千瓦功率输出高频电磁波，精确
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提升大功率电源效率是降低能耗、节约成本的关键。一方面，优化功率变换拓扑结构可减少电路损耗，如采用软开关技术，使开关管在零电压或零电流条件下开通和关断，降低开关损耗。另一方面，选用高性能的功率器件，如碳化硅（SiC）和氮化镓（GaN
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